化学刻蚀SrTiO3中亚表面缺陷的深度分辨研究
材料科学
2009-11-13 v1
摘要
对原子级平坦的TiO2终止SrTiO3单晶表面进行的深度分辨阴极发光光谱研究揭示了，通过传统缓冲HF(BHF)刻蚀和替代性HCl-HNO3酸性溶液(HCLNO)刻蚀产生的本征点缺陷存在显著差异。HCLNO方法在纯氧退火前产生的氧空位数量是BHF方法的三分之一，退火后则几乎低一个数量级。BHF产生的缺陷密度延伸至表面以下数百纳米，而HCLNO处理后的较低密度则延伸不到50纳米。这种“阿肯色”HCLNO刻蚀与退火方法避免了HF处理，并为复杂氧化物异质结构生长提供了具有低本征缺陷密度的高质量SrTiO3表面。
引用
@article{arxiv.0903.1853,
title = {Depth-Resolved Subsurface Defects in Chemically Etched SrTiO3},
author = {Jun Zhang and D. Doutt and T. Merz and J. Chakhalian and M. Kareev and J. Liu and L. J. Brillson},
journal= {arXiv preprint arXiv:0903.1853},
year = {2009}
}
备注
12 pages, 3 figures