SIsFS结中的态密度与电流-电压特性
超导电性
2021-08-11 v2
摘要
我们研究了具有复杂中间层的超导约瑟夫森SIsFS结中的态密度（DOS），该中间层由绝缘体I与铁磁金属F之间的薄超导间隔层's'构成。考虑集中于隧穿势垒附近的局域态密度，并由此可估算此类结在电阻态下的电流-电压特性。我们研究了邻近效应与塞曼分裂对系统性质的影响，发现了具有非零态密度的显著亚隙区。我们还发现了薄s层中态密度行为所表现的0-π转变。这些性质导致I-V曲线上出现新的特征，为结内电子态提供了额外信息。
引用
@article{arxiv.2007.15054,
title = {Density of states and current-voltage characteristics in SIsFS junctions},
author = {S. V. Bakurskiy and A. A. Neilo and N. V. Klenov and I. I. Soloviev and A. A. Golubov and M. Yu. Kupriyanov},
journal= {arXiv preprint arXiv:2007.15054},
year = {2021}
}
备注
11 pages, 10 figures