石墨烯双层中电子和空穴的库珀配对：关联效应

在平均场近似之外研究了石墨烯双层中空间分离的电子和空穴的库珀配对。自洽地考虑了由能隙出现引起的长距离屏蔽抑制。能隙出现与相互作用增强之间的相互正反馈导致向关联态的急剧转变，在耦合强度超过某个临界值时能隙大大增加。在低于临界值的耦合强度下，这种关联效应使能隙增加约两倍。实验中可实现的最大耦合强度接近临界值。这表明在弱衬底介电屏蔽下紧密间隔的石墨烯双层中关联效应的重要性。考虑的另一个超出平均场近似的效应是顶点修正对配对的影响，结果表明该影响非常弱。