弱引力透镜对暗物质晕内部密度轮廓的约束

我们构建了两种基于弱引力透镜的线性滤波技术，用于约束暗物质晕密度轮廓的内部斜率 $\alpha$。这两种方法都将所有可用信息整合为对该单一数值的估计。在理想化假设下，如果晕的浓度 $c$ 已知，$\alpha$ 可被约束在约 15% 以内；若未知，则约束精度低于 30%。我们认为，在现实条件下，密度轮廓斜率与晕浓度之间不可避免的简并无法消除，并通过 Fisher 矩阵方法展示了透镜数据滤波对 $\alpha$ 和 $c$ 的何种线性组合约束最佳。这定义了一个新参数，称为 P1，对于单个大质量晕，其约束精度可达约 15%。如果多个晕的信号可以叠加，那么本文提出的线性滤波器应能很好地约束它们的密度轮廓，其优势在于对星系团亚结构不敏感。