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非晶硅纳米结构中的导电电子:局域结构介导的相干干涉与金属-绝缘体转变

介观与纳米尺度物理 2017-03-08 v1 材料科学

摘要

由于缺乏周期性的参考框架,非晶固体中的局域结构难以精确描述,但它们对材料性质仍产生巨大影响。例如,有机和无机玻璃的热力学响应敏感地依赖于自由体积或软点1,2^{1,2}的分布。同时,赋予非晶绝缘体无与伦比的电击穿强度的强电子局域化3^{3},很容易被促进变程非弹性隧穿4,5^{4,5}的局域缺陷所破坏。本文报道了金属导电如何克服小尺寸非晶绝缘体中的强局域化,以及局域结构如何对这种导电表现出引人注目的影响。在非晶硅中,纳米尺度的电子具有高度的相干性,表现出稳健的量子干涉现象,令人联想到在弱局域化金属晶体中观察到的介观现象6^{6}。然而,超软硅键作为关键的局域结构出现,其异常强的电子-声子相互作用迫使巡游电子在低温下缓慢移动,甚至在提供 Si-O/N 位点时在所有温度下都被捕获。这些局域结构可以通过电压或压力来操控,以调控电荷存储、电荷流动和金属-绝缘体转变。同样由锗、氧化物和氮化物制成的纳米结构非晶导体可能为新应用提供机遇。

关键词

引用

@article{arxiv.1703.02203,
  title  = {Conducting Electrons in Amorphous Si Nanostructures: Coherent Interference and Metal-Insulator Transitions Mediated by Local Structures},
  author = {Yang Lu and I-Wei Chen},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1703.02203},
  year   = {2017}
}