胶体二氧化硅表面的碱金属离子致密层

Aleksey M. Tikhonov

doi:10.1021/jp065538r

胶体二氧化硅表面的碱金属离子致密层

软凝聚态物质 2007-05-23 v2

作者: Aleksey M. Tikhonov

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摘要

电镜像力强烈极化胶体二氧化硅的表面。我使用X射线散射研究了吸附在5纳米、7纳米和22纳米颗粒浓溶液表面的2纳米厚碱金属离子致密层，这些溶液由NaOH或NaOH与CsOH的混合物稳定，碱金属离子的总体相浓度范围为0.1至0.7摩尔/升。观察到的致密层结构几乎与颗粒大小和溶胶中碱浓度无关；它可以用两层模型描述，即约8埃厚的直接吸附水合碱金属离子层，表面浓度为3x10(18) m(-2)，以及约13埃厚的钠离子层，表面浓度为8x10(18) m(-2)。在富铯溶胶中，Cs+离子优先吸附在第一层中取代Na+；它们在第二层中的密度不依赖于溶胶中铯的存在。Cs+和Na+离子吸附的差异可以用其他人先前推导的静电吉布斯能量方程中依赖于离子尺寸的项来解释。我还讨论了溶胶表面的表面电荷密度和表面张力值。

关键词

胶体二氧化硅碱金属离子致密层 X射线散射吸附表面电荷表面张力

引用

@article{arxiv.cond-mat/0609437,
  title  = {Compact Layer of Alkali Ions at the Surface of Colloidal Silica},
  author = {Aleksey M. Tikhonov},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0609437},
  year   = {2007}
}

备注

32 pages 10 figures

胶体二氧化硅表面的碱金属离子致密层

摘要

关键词

引用

备注

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