化学稳定的外延纤锌矿型氮化硼薄膜
材料科学
2018-03-14 v1 化学物理
摘要
我们报道了在缓慢动力学条件下通过脉冲激光沉积在 c 面蓝宝石上生长的化学稳定外延 w-BN（纤锌矿型氮化硼）薄膜。其中不存在立方（c）或六方（h）BN 相等其他同素异形体的痕迹。蓝宝石衬底在异常 PLD 生长条件（涉及低温低压）下从 h-BN 靶稳定亚稳态 w-BN 方面起着重要作用，并基于密度泛函理论计算加以解释。沿 <0001> 方向通过压痕测得的 w-BN 薄膜的硬度和弹性模量分别为 37 和 339 GPa。该结果在推进微电子与机械加工工业方面极具前景。
引用
@article{arxiv.1801.09329,
title = {Chemically stabilized epitaxial wurtzite-BN thin film},
author = {Badri Vishal and Rajendra Singh and Abhishek Chaturvedi and Ankit Sharma and M. B. Sreedhara and Rajib Sahu and Usha Bhat and Upadrasta Ramamurty and Ranjan Datta},
journal= {arXiv preprint arXiv:1801.09329},
year = {2018}
}