118 nm 真空紫外光源的表征
光学
2021-02-03 v1 化学物理
摘要
118 nm 的真空紫外（VUV）光已被证明是一种用于电离分子以进行各种气相化学研究的强大工具。通过将 Nd:YAG 激光器的 355 nm 光在氙气中进行三倍频，可以产生方便的台式 118 nm 光源。该过程效率较低，通常每脉冲仅产生 nJ 量级的 VUV 光。三倍频过程的简单模型预测，所产生的 118 nm 光功率应随氙气压强增加而二次方增长。然而，实验观察到 118 nm 光的产生在氙气压强增加时达到最大值，然后下降至零。在此，我们描述了产生 118 nm 光的基本理论和实验装置，以及基于压强展宽吸收的限制产生机制的新提出模型。
引用
@article{arxiv.2010.13881,
title = {Characterization of a vacuum ultraviolet light source at 118 nm},
author = {John M. Gray and Jason Bossert and Yomay Shyur and Ben Saarel and Travis C. Briles and H. J. Lewandowski},
journal= {arXiv preprint arXiv:2010.13881},
year = {2021}
}