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外延硅锗热敏电阻层的表征与预测建模

材料科学 2013-12-04 v1 介观与纳米尺度物理 量子物理

摘要

通过实验和仿真分析了外延硅锗(SiGe)层的电阻温度系数(TCR)。使用漂移-扩散形式和自洽量子力学解的预测仿真得出了相似的结果,在300 K时TCR约为2%/K。这种建模方法可用于不同的、渐变和恒定的SiGe分布。它还能够预测背景自掺杂对探测器TCR的影响。

关键词

引用

@article{arxiv.1112.2043,
  title  = {Characterization and Predictive Modeling of Epitaxial Silicon-Germanium Thermistor Layers},
  author = {B. Gunnar Malm and Mohammadreza Kolahdouz and Fredrik Forsberg and Frank Niklaus},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1112.2043},
  year   = {2013}
}