Ti:LiNbO$_3$波导中非均匀性的表征
光学
2019-12-12 v1 量子物理
摘要
集成导引系统中的非线性过程对经典与量子实验均至关重要。集成组件可实现紧凑、模块化且稳定的光处理系统，因而其在现实系统中的使用持续扩展。为在效率和/或光谱性能至关重要的高要求应用中使用这些器件，对器件进行充分优化十分重要。为实现这些优化，首先须透彻理解当前制备极限及其对器件最终性能的影响。本文研究了采用掩模光刻法制备的钛扩散铌酸锂波导的当前制备极限。通过将长（~cm）样品切割为较小片段并记录所得相位匹配光谱，表征了UV光刻工艺中存在的制备误差。所提取的不完美性与理论预期吻合良好，且由测得的不完美轮廓表明可直接重建原始的畸变相位匹配光谱。因此，我们的测量直接量化了当前标准UV光刻技术用于实现铌酸锂集成波导的内在局限。
引用
@article{arxiv.1906.10018,
title = {Characterisation of Inhomogeneities in Ti:LiNbO$_3$ waveguides},
author = {Matteo Santandrea and Michael Stefszky and Ganaël Roeland and Christine Silberhorn},
journal= {arXiv preprint arXiv:1906.10018},
year = {2019}
}
备注
10 pages, 6 figures