射频表面等离子体源中带铯化的碳膜
等离子体物理
2018-10-17 v1
摘要
据推测，SNS RF SPS 中持续的铯化与套环转换器上碳膜的沉积有关。石墨在碱金属沉积下的功函数依赖关系没有金属和半导体典型的极小值，且最终功函数更高。因此，铯化金属和半导体上 H- 二次发射的概率可能高于铯化碳膜，但碳膜维持铯化时间更长，且可在低铯消耗下运行。
引用
@article{arxiv.1808.06003,
title = {Carbon Film in Radio Frequency Surface Plasma Source with Cesiation},
author = {Vadim Dudnikov and B. Han and S. Murray and T. Pennisi and C. Stinson and M. Stockli and R. Welton and A. Dudnikov},
journal= {arXiv preprint arXiv:1808.06003},
year = {2018}
}