用于低损耗等离激元的能带工程层状金属
材料科学
2017-05-24 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
等离激元学目前面临金属组分中看似不可避免的光学损耗问题，这挑战了几乎任何应用的实现。本工作中，我们表明由于源自其特殊电子能带结构的近红外散射态密度极小，某些层状金属（如过渡金属二硫属化物TaS）中的欧姆损耗得以降低。基于该观察，我们提出一类新的能带工程范德瓦耳斯层状金属，其由六方过渡金属硫卤化物层组成，具有极大抑制的本征损耗。利用第一性原理计算，我们展示了光学损耗的抑制可改善薄膜波导与变换光学中的性能。
引用
@article{arxiv.1701.07222,
title = {Band structure engineered layered metals for low-loss plasmonics},
author = {Morten Niklas Gjerding and Mohnish Pandey and Kristian Sommer Thygesen},
journal= {arXiv preprint arXiv:1701.07222},
year = {2017}
}