中文

直流反应溅射ZnON薄膜的带隙调控

材料科学 2023-02-17 v1

摘要

氮氧化锌(ZnOx_xNy_y)近年来作为一种极具前景的带隙可调半导体材料涌现于光电子应用。本研究开发了一种新颖的直流反应溅射方案,通过精确控制工作压强来制备具有不同元素浓度的ZnOx_xNy_y薄膜。利用紫外-可见光谱严格分析带隙,并以EDAX光谱辅助确定元素组成变化。通过AFM、XRD与拉曼光谱研究微结构与带隙的关联,同时利用Urbach定理评估缺陷态。本研究揭示了带隙调控过程中形成的中间结构,这对未来面向光子学应用的异质结构与二维超晶格开发研究具有重要启示。

关键词

引用

@article{arxiv.2302.08201,
  title  = {Band Gap Tuning of DC Reactively Sputtered ZnON Thin Films},
  author = {Kiran Jose and J. G. Anjana and Venu Anand and Aswathi R. Nair},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2302.08201},
  year   = {2023}
}