面向高性能计算与人工智能前沿微电子应用的原子精度新材料加工
应用物理
2020-09-08 v1 等离子体物理
摘要
本文件是普林斯顿等离子体物理实验室、IBM T. J. 沃森研究中心和应用材料公司的科学家对能源部科学办公室（DOE-SC）微电子基础研究倡议信息征询（https://www.federalregister.gov/documents/2019/07/12/2019-14869/request-for-information-basic-research-initiative-for-microelectronics）的联合回应。具体而言，我们建议DOE-SC在未来的微电子征询中考虑以下主题：1）开发实时监测和原位诊断技术，能够在面向高性能计算和人工智能的最先进微电子器件复杂材料的原子精度加工过程中，提供等离子体、衬底表面以及两者相互作用的信息；2）开发经实验验证的建模工具，以预测包括等离子体、化学和材料加工过程在内的加工动力学。
引用
@article{arxiv.2009.03109,
title = {Atomic Precision Processing of New Materials for Frontier Microelectronic Applications in High Performance Computing and Artificial Intelligence},
author = {Yevgeny Raitses and Sebastian Engelmann and Shahid Rauf and Igor Kaganovich and Jonathan Menard and Steven Cowely},
journal= {arXiv preprint arXiv:2009.03109},
year = {2020}
}
备注
7 pages