氧还原触发的电子掺杂铜氧化物中反铁磁性与超导性的竞争

P. Richard; M. Neupane; Y. -M. Xu; P. Fournier; S. Li; Pengcheng Dai; Z. Wang; H. Ding

doi:10.1103/PhysRevLett.99.157002

氧还原触发的电子掺杂铜氧化物中反铁磁性与超导性的竞争

超导电性 2009-01-30 v1 强关联电子

作者: P. Richard , M. Neupane , Y. -M. Xu , P. Fournier , S. Li , Pengcheng Dai , Z. Wang , H. Ding

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摘要

我们对生长态和氧还原态的 Pr $_{2-x}$ Ce $_x$ CuO $_4$ 和 Pr $_{1-x}$ LaCe $_{x}$ CuO $_4$ 电子掺杂铜氧化物进行了系统的角分辨光电子发射研究。与普遍观点相反，能带填充和能带参数并未受到氧还原过程的显著影响。相反，我们表明还原过程的主要电子作用是移除费米面周围的各向异性前导边隙。虽然节点前导边隙是由长程反铁磁有序引起的，但反节点前导边隙的起源仍不清楚。

关键词

电子掺杂铜氧化物氧还原反铁磁性超导性角分辨光电子发射前导边隙费米面

引用

@article{arxiv.0704.0453,
  title  = {Antiferromagnetism-superconductivity competition in electron-doped cuprates triggered by oxygen reduction},
  author = {P. Richard and M. Neupane and Y. -M. Xu and P. Fournier and S. Li and Pengcheng Dai and Z. Wang and H. Ding},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0704.0453},
  year   = {2009}
}

备注

4 pages, 4 figures

氧还原触发的电子掺杂铜氧化物中反铁磁性与超导性的竞争

摘要

关键词

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