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基于广义威布尔分布的氧化物介电击穿改进描述

材料科学 2012-08-27 v1

摘要

在这项工作中,我们研究了超薄氧化物介电击穿过程中描述击穿电荷量(QBD)(Q_{BD})和/或击穿时间(tBD)(t_{BD})的统计分布中的模态参数涨落,这对于电子技术的进步具有重要意义。我们重新推导了一个广义威布尔分布(qq-威布尔分布),该分布能在存在氧化物厚度涨落时恰当地描述(tBD)(t_{BD})数据,旨在通过击穿时间(tBD)(t_{BD})外推和面积缩放来改进超薄氧化物的可靠性评估。涨落的引入使得qq-威布尔分布能够与Tsallis统计联系起来进行物理解释。为支持我们的结果,我们分析了通过实验和逾渗模型理论获得的SiO2_2基MOS器件的tBDt_{BD}数据,证明了qq-威布尔分布对介电击穿描述的优势。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/0602515,
  title  = {An Improved Description of the Dielectric Breakdown in Oxides Based on a Generalized Weibull distribution},
  author = {U. M. S. Costa and V. N. Freire and L. C. Malacarne and R. S. Mendes and S. Picoli, and E. A. de Vasconcelos and E. F. da Silva,},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0602515},
  year   = {2012}
}

备注

5 pages, 3 figures