非晶晶界膜在碰撞级联中充当超高效点缺陷汇
材料科学
2015-07-31 v2 介观与纳米尺度物理
摘要
采用原子尺度模拟探究界面结构对残余辐射损伤的影响。具体地，将有序晶界与无序非晶晶界膜对比，研究界面厚度和自由体积如何影响点缺陷复合。模拟中子轰击诱发的碰撞级联，并分析残余点缺陷数量随晶界类型和初级撞出原子（primary knock on atom）能量的变化。有序晶界虽易吸收间隙原子，但这些界面作为空位汇效率低。相反，非晶晶界膜充当超高效、无偏见的缺陷汇，为制备辐射耐受材料提供途径。
引用
@article{arxiv.1506.06783,
title = {Amorphous intergranular films act as ultra-efficient point defect sinks during collision cascades},
author = {Joseph E. Ludy and Timothy J. Rupert},
journal= {arXiv preprint arXiv:1506.06783},
year = {2015}
}
备注
4 figures