考虑工艺偏差与多输入切换的概率配点法统计门延迟模型
硬件体系结构
2011-11-09 v1
摘要
自新型纳米技术问世以来，由工艺偏差引起的门延迟变化已成为主要关注点。本文提出了一种新的门延迟模型，该模型同时包含了工艺偏差和多输入切换的影响。所提出的模型利用基于正交多项式的概率配点法，从电路时序性能构建延迟解析方程。实验结果表明，该方法在门平均延迟上的误差小于 0.2%，在标准差上的误差小于 3%。
引用
@article{arxiv.0710.4634,
title = {A Probabilistic Collocation Method Based Statistical Gate Delay Model Considering Process Variations and Multiple Input Switching},
author = {Y. Satish Kumar and Jun Li and Claudio Talarico and Janet Wang},
journal= {arXiv preprint arXiv:0710.4634},
year = {2011}
}
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