暗物质暗环中解析密度轮廓拟合的必要条件
天体物理学
2007-05-23 v1
摘要
将广义幂律(GPL)密度轮廓与模拟暗暗环(SDH)密度轮廓进行比较，采用涉及五个参数以指定拟合轮廓的非线性最小二乘拟合(RFSM5方法)。更具体地说，极值点发生的有效性与三个在三维空间中的曲面相交的存在有关。对17个SDH的样本进行了应用，样本规模为星系团尺度，在平坦的/\CDM宇宙学模型中。在处理平均SDH密度轮廓(ADP)时，赋予整个样本的平均值作为核半径，以便计算剩余参数。最佳拟合GPL密度轮廓到ADP以及相关平均值计算的指数，与NFW模型的值相差甚远。在拟合对数密度轮廓的渐近内斜率方面，数值与来自最新高分辨率模拟的结果一致。
引用
@article{arxiv.astro-ph/0501369,
title = {A necessary condition for best fitting analytical to simulated density profiles in dark matter haloes},
author = {R. Caimmi},
journal= {arXiv preprint arXiv:astro-ph/0501369},
year = {2007}
}
备注
47 pages, 2 figures