Ge/Si(100)润湿层上的3D纳米结构：小丘与预量子点
材料科学
2016-06-22 v1
摘要
亚临界Ge润湿层（WL<3.5 ML）的退火会引发3D纳米结构的形成，其形状和取向由WL厚度决定，从而与应变能直接相关。通过扫描隧道显微镜研究了这些纳米结构（小丘和预量子点）的出现。在350 C沉积的润湿层初始在纳米尺度上粗糙，并经历渐进转变和光滑化，直到T>460 C观察到空位线和2xn重构。然后亚稳态Ge润湿层（WL）坍塌形成3D纳米结构，其形貌由WL厚度控制：首先，对于薄润湿层形成小丘，其具有婚礼蛋糕型结构，台阶边缘平行于<110>方向；而从较厚层形成{105}晶面结构，即所谓的预量子点（p-QDs）。润湿层厚度从而失配应变能控制结构类型。小丘与p-QDs regime之间的交叉厚度在1.6至2.1 ML之间。小丘比p-QDs具有更大的横向尺寸和体积，而p-QDs是异常小的量子点，宽度下限为10 nm。我们的工作为在弹性应变Ge/Si系统中控制纳米结构形貌和尺寸开辟了新途径。
引用
@article{arxiv.1604.03194,
title = {3D Nanostructures on Ge/Si(100) Wetting Layers: Hillocks and Pre-Quantum Dots},
author = {Gopalakrishnan Ramalingam and Jerrold A. Floro and Petra Reinke},
journal= {arXiv preprint arXiv:1604.03194},
year = {2016}
}
备注
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