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多电子硅量子点中的自旋 - 谷道近藤效应

材料科学 2019-09-04 v1 强关联电子

摘要

我们研究了占据 N\mathcal{N} 个电子(N\mathcal{N} 高达 4)的硅量子点中的自旋 - 谷道近藤效应。我们表明,近藤共振出现在 N=1,2,3\mathcal{N}=1,2,3 的库仑阻塞区,但未出现在 N=4\mathcal{N}=4 区,这与仅发生在 N\mathcal{N} 为奇数时的自旋 -1/2 近藤效应形成对比。假设轨道能级间距较大,量子点的能态可简单地由四重自旋 - 谷道自由度来表征。我们利用有限 U 的运动方程方法,获得了态密度(DOS)随温度和外加磁场的变化关系。态密度中的结构可在输运实验中探测到。对于双电子和三电子硅量子点,近藤共振会因塞曼分裂和谷道分裂而发生分裂,其方式与单电子量子点类似。与纯自旋近藤效应相比,自旋 - 谷道近藤效应的峰结构和分裂模式要丰富得多。

关键词

引用

@article{arxiv.0708.0408,
  title  = {Spin-Valley Kondo Effect in Multi-electron Silicon Quantum Dots},
  author = {Shiueyuan Shiau and Robert Joynt},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0708.0408},
  year   = {2019}
}

评论

8 pages, 4 figures, in PRB format. This paper is a sequel to the paper published in Phys. Rev. B 75, 195345 (2007)

R2 v1 2026-06-29T02:17:29.230Z