多电子硅量子点中的自旋 - 谷道近藤效应
材料科学
2019-09-04 v1 强关联电子
摘要
我们研究了占据 个电子( 高达 4)的硅量子点中的自旋 - 谷道近藤效应。我们表明,近藤共振出现在 的库仑阻塞区,但未出现在 区,这与仅发生在 为奇数时的自旋 -1/2 近藤效应形成对比。假设轨道能级间距较大,量子点的能态可简单地由四重自旋 - 谷道自由度来表征。我们利用有限 U 的运动方程方法,获得了态密度(DOS)随温度和外加磁场的变化关系。态密度中的结构可在输运实验中探测到。对于双电子和三电子硅量子点,近藤共振会因塞曼分裂和谷道分裂而发生分裂,其方式与单电子量子点类似。与纯自旋近藤效应相比,自旋 - 谷道近藤效应的峰结构和分裂模式要丰富得多。
引用
@article{arxiv.0708.0408,
title = {Spin-Valley Kondo Effect in Multi-electron Silicon Quantum Dots},
author = {Shiueyuan Shiau and Robert Joynt},
journal= {arXiv preprint arXiv:0708.0408},
year = {2019}
}
评论
8 pages, 4 figures, in PRB format. This paper is a sequel to the paper published in Phys. Rev. B 75, 195345 (2007)