逾渗阈值附近金膜中的白光产生与各向异性损伤
介观与纳米尺度物理
2017-05-18 v1
摘要
金属纳米结构在光照下产生的强烈增强和局域电磁场被许多新兴技术所利用，通过制造复杂的纳米结构或合成胶体纳米颗粒。在此，我们研究了由电场确定的逾渗阈值附近薄膜中金岛之间极小间隙内场增强驱动的效应。使用双光子发光(TPL)和近场显微镜的光学探索揭示了具有白光光谱的超三次方TPL功率依赖关系，明确证实了最强的TPL信号是在接近逾渗阈值的薄膜中产生的，并且在光照波长处出现了极其局域（约30 nm）和强烈增强（约100倍）的场。对于线偏振且足够强的光，我们观察到显著的光学损伤，TPL图像对光照光的波长和偏振均敏感。我们将这些效应与通过扫描电子显微镜图像观察到的热致形态变化联系起来。光与近逾渗金属膜相互作用所涉及的迷人物理，连同其直接且可扩展的一步制备程序，有望在现代纳米技术的各个领域带来广泛而迷人的发展和技术应用，从生物分子光学传感到超高密度光学数据存储。
引用
@article{arxiv.1701.01839,
title = {White light generation and anisotropic damage in gold films near percolation threshold},
author = {Sergey M. Novikov and Christian Frydendahl and Jonas Beermann and Vladimir A. Zenin and Nicolas Stenger and Victor Coello and N. Asger Mortensen and Sergey I. Bozhevolnyi},
journal= {arXiv preprint arXiv:1701.01839},
year = {2017}
}
备注
42 pages in total of the main (27 pages) and supplementary (15 pages) material with 4 main and 10 supplementary figures