来自纳米结构金属薄膜与膜的 photon induced near-field electron microscopy
材料科学
2023-03-21 v1 光学
摘要
我们利用 photon induced near-field electron microscopy，实验与理论相结合地研究了快电子与介电膜上金属孔径及纳米结构所散射电磁场之间的非弹性相互作用。在硅氮化物膜上金孔径上于高亮度超快透射电子显微镜中进行的实验，揭示了电子-光耦合强度的强烈调制。我们证明该效应源于孔径边缘散射的电场与介电膜对入射波的反射和透射的共同作用。此外，当在金属孔径内添加纳米结构时，新的散射场与先前贡献干涉，从而在电子-光耦合强度的额外调制中印刻出纳米结构的光学响应。利用基于 Green 并矢方法的系统电动力学模拟，我们定量分析了这些对电子-光耦合的不同贡献并提出了进一步应用。
引用
@article{arxiv.2303.11195,
title = {Photon induced near-field electron microscopy from nanostructured metallic films and membranes},
author = {Sophie Meuret and Hugo Lourenço-Martins and Sébastien Weber and Florent Houdellier and Arnaud Arbouet},
journal= {arXiv preprint arXiv:2303.11195},
year = {2023}
}