双层石墨烯量子点接触中的谷子带分裂
介观与纳米尺度物理
2018-12-26 v2
摘要
我们报道了双层石墨烯量子点接触中一维子带分裂的研究，其中以为台阶的量子化电导清晰地定义至最低子带。尽管我们的源-漏偏压谱测量揭示了非传统的限域，我们观察到在前两个最低子带中（此处限域与库仑相互作用最强）垂直于双层石墨烯平面的高磁场下谷简并的完全解除，以及来自指标为的两个非相邻子带的与谷的奇特合并/混合，这由我们的半唯象模型很好地描述。
引用
@article{arxiv.1809.02458,
title = {Valley subband splitting in bilayer graphene quantum point contact},
author = {R. Kraft and I. V. Krainov and V. Gall and A. P. Dmitriev and R. Krupke and I. V. Gornyi and R. Danneau},
journal= {arXiv preprint arXiv:1809.02458},
year = {2018}
}