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反铁磁薄膜的均匀垂直与平行交错磁化率

强关联电子 2020-03-09 v2 高能物理 - 格点 高能物理 - 唯象学

摘要

我们研究了在外磁场垂直于交错磁化方向时反铁磁薄膜的热力学行为。在系统的有效拉格朗日量框架下,我们首先计算到单圈阶的两类磁子的两点函数与色散关系。这使得我们能将双圈自由能密度拆分为源于非相互作用修饰磁子的部分,以及对应于真正磁子-磁子相互作用的第二部分。随后我们讨论了包括平行交错与均匀垂直磁化率在内的多种热力学量的低温展开,并分析了有限温度下自旋波相互作用的作用。

关键词

引用

@article{arxiv.1812.04392,
  title  = {Uniform Perpendicular and Parallel Staggered Susceptibility of Antiferromagnetic Films},
  author = {Christoph Peter Hofmann},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1812.04392},
  year   = {2020}
}

备注

27 pages, 7 figures; some figures redrawn due to numerical artifacts in previous version, conclusions unaltered