剥离工艺制备的超低位错钇铁石榴石薄膜
材料科学
2019-02-14 v1
摘要
我们展示了利用无掩模光刻与剥离技术，可以制备出具有超低 Gilbert 阻尼的图案化钇铁石榴石薄膜。这些厚度为 70 nm 的薄膜通过脉冲激光沉积在 (001) 取向的钆镓石榴石上生长，表现出高结晶质量、低表面粗糙度，以及 127 emu/cm3 的有效磁化强度。Gilbert 阻尼参数低至 5x10-4。所获得的结构具有清晰锐利的边缘，结合良好的结构与磁性薄膜特性，为制造高质量磁子电路与基于氧化物的自旋电子器件铺平了道路。
引用
@article{arxiv.1902.04605,
title = {Ultra-low damping in lift-off structured yttrium iron garnet thin films},
author = {Adam Krysztofik and Luis Emerson Coy and Piotr Kuświk and Karol Załęski and Hubert Głowiński and Janusz Dubowik},
journal= {arXiv preprint arXiv:1902.04605},
year = {2019}
}
备注
9 pages, 3 figures