暗物质湮灭至带色标准模型粒子的双圈形状因子

我们研究了一个 UV 完备模型，其中暗物质（DM）粒子通过带色标量介体与胶子相互作用。这一框架提供了一个可在强子对撞机上测试的唯象可行场景。虽然单喷注特征与对撞机搜索相关，但零喷注过程对应于标准模型（SM）粒子完全湮灭为暗物质，对 relic density 有贡献。在这项工作中，我们研究了暗物质湮灭为 SM 带色粒子，在我们的模型中这源于微扰圈图过程。我们计算了暗物质产生或湮灭中胶子和夸克通道的相关双圈 QCD 振幅。使用投影技术将振幅分解为标量形状因子。利用分部积分（IBP）恒等式，我们得到了形状因子用主积分表示的解析表达式。通过抵消项重整化消除了紫外发散，得到了 UV 有限的结果。这些结果将能够在 QCD 的次领头阶（NLO）对暗物质产生或湮灭为 SM 带色粒子进行预测。