基于额外镜面的磁圆二色性光谱技术理论

本文发展了在反射光中使用额外镜面的磁圆二色性（RMCD）光谱技术理论。该方法采用简化方案（无分析仪），并利用光系统中的额外镜，结合相位调制光波的方法（使用光学相位调制器）。额外的镜面反射器与样品的镜面面形成位于强大实验室磁铁极片之间的双镜系统。额外镜的存在导致�幅 ($\Delta R/R$) 和相位 ($\Delta \phi$) RMCD 分量在相位调制频率的第一和第二谐波振幅中混合。我们指出，使用简化方案和额外镜的 RMCD 光谱技术需要同步测量三个电信号，其比例对应于光电二极管检测单色辐射总强度的相应项：常数信号 $V_{dc}$ 和高频振幅 $V_f$ 和 $V_{2f}$，分别对应相位调制频率 $f$ 和 $2f$。比值 $V_f/V_{dc}$ 和 $V_2f/V_{dc}$ 决定了一个由已知的椭圆参数 $\tan\Psi$ 和 $\Delta$（由椭圆仪或直接由 RMCD 光谱仪测得）构成的线性方程组，用于求解 $\Delta R/R$ 和 $\Delta \phi$。