范德华斯相互作用对 EPD 沉积物晶体结构的影响：一种模拟研究
材料科学
2026-05-01 v1
摘要
电渗沉积是制作涂层的首选方法，由于其实现容易且能够在单一步骤过程中制造相对较大厚度的涂层。尽管该过程还受到许多可调参数的影响，以便为每种应用调整涂层（如施加电场、颗粒浓度、悬浮液的粘度等），但这种自由度可能导致参数选择变得令人眼花缭乱。更深入地理解沉积过程中发生的微观现象和机制，才能为更高效地设计优化涂层提供思路。允许模拟 various process parameters 的颗粒基模型对于获取此类系统的见识尤其有趣。尽管如此，这类研究仍然很少，而且通常不涉及颗粒之间自黏的可能性，而这似乎对于最终沉积物的结构至关重要。本文我们使用颗粒基模拟来研究聚集对不同施加电场下沉积物形成的影响。我们展示，自黏确实会导致近 substrate 以及沉积物 bulk 中的不同晶体结构，并将其与沉积物的力学特征相关联。我们的结果表明，在高电场下，自黏对最终晶体结构的影响基本消失，超过一个临界场强。这标志着沉积介质由聚集主导的 regime 与体排斥效应主导的 regime 之间的转变。
引用
@article{arxiv.2604.26987,
title = {The effect of Van der Waals interaction on the microstructure of EPD deposits: a simulation study},
author = {Rémi Martin and Sandrine Duluard and Céline Merlet},
journal= {arXiv preprint arXiv:2604.26987},
year = {2026}
}