退火温度对 $WO_3$ 表面统计性质的影响
数据分析、统计与概率
2007-05-23 v1
摘要
我们利用原子力显微镜技术（AFM）研究了退火温度对 表面统计性质的影响。我们应用了水平截线法和结构函数法。水平截线分析表明，在约 400 的最佳退火温度下， 薄膜的有效面积最大，同时表面组成保持化学计量比。表面高度涨落的复杂性通过粗糙度、粗糙度指数和表面特征的横向尺寸来表征。我们发现，在约 400 处存在一个从一组粗糙度参数到两组粗糙度参数的相变。这是由于样品中已通过实验发现的从非晶态到晶态的微观结构变化所致。
引用
@article{arxiv.0704.1023,
title = {The Effect of Annealing Temperature on Statistical Properties of $WO_3$ Surface},
author = {G. R. Jafari and A. A. Saberi and R. Azimirad and A. Z. Moshfegh and S. Rouhani},
journal= {arXiv preprint arXiv:0704.1023},
year = {2007}
}
备注
8 pages, 6 figures;