拓扑 Bi(111) 双层的边缘工程
材料科学
2014-10-31 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
拓扑绝缘体是一种新颖的量子态，其特征是受对称性保护的非平凡边缘/表面态。我们的第一性原理模拟显示，化学修饰对拓扑 Bi(111) 双层纳米带的边缘态有显著影响，它移除了平庸的边缘态，并恢复了拓扑边缘态的狄拉克线性色散。通过比较有无化学修饰的边缘态，Bi(111) 双层纳米带为评估边缘态的电导涨落提供了一个简单系统。化学修饰还可以改变边缘态的穿透深度和自旋织构。我们提出了一个低能有效模型来解释 Bi(111) 双层纳米带独特的自旋织构，该模型打破了沿扶手椅边缘的自旋-动量正交性。
引用
@article{arxiv.1403.0147,
title = {The edge engineering of topological Bi(111) bilayer},
author = {Xiao Li and Hai-Wen Liu and Hua Jiang and Fa Wang and Ji Feng},
journal= {arXiv preprint arXiv:1403.0147},
year = {2014}
}
备注
5 pages, 5 figures