被弹射子晕的分布及其对晕组装偏差的启示
天体物理学
2015-05-13 v2
摘要
利用高分辨率宇宙学 体模拟,我们识别出被弹射的子晕群体,它们在红移 时是晕,但在高红移时曾包含在更大质量的“宿主”晕中。在总晕群体中,被弹射子晕的比例随晕质量从 到 而从 9% 降至 4%。大多数被弹射子晕分布在其宿主晕病毒半径的 4 倍范围内。与普通晕相比,这些被弹射子晕在其宿主周围具有独特的速度分布。给定质量的宿主晕弹射出的子晕数量随宿主的组装红移增加而增加。被弹射子晕通常位于高密度区域,其偏差参数比同质量的普通晕高得多。它们也具有更早的组装时间,因此促成了宇宙学模拟中观测到的暗物质晕组装偏差。然而,组装偏差并非由被弹射群体主导,这表明大尺度环境效应对普通晕的影响是组装偏差的主要来源。
引用
@article{arxiv.0811.3558,
title = {The distribution of ejected subhalos and its implication for halo assembly bias},
author = {Huiyuan Wang and H. J. Mo and Y. P. Jing},
journal= {arXiv preprint arXiv:0811.3558},
year = {2015}
}
备注
revised version, submitted to MNRAS