常压等离子体合成与织构化（超）疏水氟化表面的工艺
等离子体物理
2016-05-03 v1
摘要
通过针对等离子体相和所得材料表面的综合研究，考察并展示了利用常压等离子体合成与织构化氟化表面的工艺。评估了三种将表面疏水性增强至生产超疏水表面的方法：(i) 聚四氟乙烯(PTFE)表面的改性，(ii) 氟化涂层的等离子体沉积，以及 (iii) 将纳米颗粒掺入那些氟化薄膜中。在所有方法中，等离子体气体的性质似乎是获得所需性能的关键参数。尽管纯氦等离子体可对PTFE表面获得更高的刻蚀，但只有在等离子体中添加O2才能产生织构化，同时这降低了总刻蚀量。利用介质阻挡放电沉积CxFy薄膜可获得水接触角(WCAs)为115{\textdegree}的疏水涂层，但只有丝状氩放电才能诱导更高的水接触角。最后，在氟化层下沉积纳米颗粒以增加表面粗糙度，从而制备出以水滴在表面不粘附为特征的超疏水杂化涂层。
引用
@article{arxiv.1604.08752,
title = {Synthesis and texturization processes of (super)-hydrophobic fluorinated surfaces by atmospheric plasma},
author = {Julie Hubert and Jérémy Mertens and Thierry Dufour and Nicolas Vandencasteele and François Reniers and Pascal Viville and Roberto Lazzaroni and M Raes and Herman Terryn},
journal= {arXiv preprint arXiv:1604.08752},
year = {2016}
}
备注
arXiv admin note: text overlap with arXiv:1604.08801