多弯偏转线中相干同步辐射诱导发射度增长的抑制
加速器物理
2024-05-27 v2
摘要
在高亮度电子束的传输过程中保持束流质量是现代加速器设计中一项重大且普遍的挑战。该问题的重要性在于，加速器输出端的束流质量对各种应用至关重要，包括粒子对撞机、自由电子激光和同步辐射光源。当束团被偏转时，相干同步辐射（CSR）效应会降低束流质量。因此，开发一种能有效抑制 CSR 效应的结构，特别是针对短束团，显得至关重要。这包括保护横向发射度和纵向剖面，以确保产生高质量的束流。在本研究中，提出了一种基于束线反向晶格的优化方法。该方法可以简化优化过程。基于此方法，设计并优化了四弯消色差（QBA）偏转结构。然后，我们推导出了完全抑制稳态 CSR 对不同拓扑结构的 QBA 横向平面影响的一般解。此外，针对等时结构，提出了抑制序列漂移中由 CSR 引起的位移的一般条件。同时，QBA 被证明是能够同时抑制这两种 CSR 效应的最简单结构。针对峰值电流高达 的束团的仿真结果表明，在大角度偏转下横向发射度几乎没有变化。
引用
@article{arxiv.2405.05585,
title = {Suppression of Coherent Synchrotron Radiation-Induced Emittance Growth in a Multi-Bend Deflection Line},
author = {Xiuji Chen and Si Chen and Dong Wang},
journal= {arXiv preprint arXiv:2405.05585},
year = {2024}
}
备注
14 pages,11 figures