超导体 - 铁磁体双层膜的超流密度

我们报告了超导体 - 铁磁体 (SC/FM) 双层膜有效超流密度 $n_S(T) \propto \lambda^{-2}(T)$ 的首次测量结果，其中 $\lambda$ 为有效磁场穿透深度。我们在超高真空中快速连续地将薄 Nb/Ni 双层膜溅射到氧化的 Si 衬底上。所有样品的 Nb 层厚度均为 102 A，而 Ni 厚度在 0 到 100 A 之间变化。由 $\lambda^{-2}(T)$ 确定的 $T_C$ 随着 Ni 厚度 $d_{Ni}$ 从零增加到 15 A 而迅速下降，随后在 $d_{Ni} \approx 25$ A 处出现一个浅极小值。$\lambda^{-2}(0)$ 表现出类似的行为，但其极小值深数倍。事实上，在 $T_C$ 停止变化很久之后，$\lambda^{-2}(0)$ 仍随 Ni 厚度的增加而继续增大。我们认为这表明铁磁性 Ni 薄膜内部存在显著的超流密度。