用于介观高压实验的金刚石压砧亚微米电路制备
介观与纳米尺度物理
2025-07-03 v2 其他凝聚态物理
超导电性
量子物理
摘要
我们提出了一种新颖的制备工艺，用于在金刚石压砧上生成从压砧台面延伸至斜切面的高质量剥离结构。通过使用双层抗蚀剂叠层和电子束光刻，实现了小至 500 nm 的特征尺寸。通过优化表面处理，实现了对金刚石表面具有强附着力和高耐磨性的器件结构。为了对我们的工艺进行基准测试，我们制备了多引线钨电路，用于测量锆在 30 GPa 结构相变跨越时超导转变温度的变化；结果显示临界温度出现了 4 倍的跃升。我们的工艺在大多数传统学术和工业洁净室设施中易于重现。这项工作为在金刚石压砧池内部及其他切面晶体样品上进行复杂且高精度的制备与测量铺平了道路。
引用
@article{arxiv.2501.03317,
title = {Sub-micron Circuit Fabrication on Diamond Anvils for Mesoscopic High-Pressure Experiments},
author = {Z. R. Rehfuss and K. Zheng and S. L. Gould and K. W. Murch and S. Ran},
journal= {arXiv preprint arXiv:2501.03317},
year = {2025}
}
备注
6 pages, 3 figures