利用成像偏振法研究光折变单晶 LiNbO3 中的光学损伤
综合物理
2007-08-16 v1 光学
摘要
实验研究了光折变材料单晶 LiNbO3 的光学损伤。样品被聚焦至 35?m 光斑的连续 Ar 激光器辐射（波长 488 nm）照射。通过成像偏振仪获得了诱导双折射图。展示了该实验装置在探测光折变材料中激光诱导损伤方面的潜在资源。
引用
@article{arxiv.0708.2028,
title = {Studies of Optical Damage in Photorefractive Single LiNbO3 Crystals using Imaging Polarimetry},
author = {O. Krupych and I. Smaga and R. Vlokh},
journal= {arXiv preprint arXiv:0708.2028},
year = {2007}
}
备注
5 pages, 6 figures