低阻尼锂插层六方氮化硼薄膜中的强二维等离激元
介观与纳米尺度物理
2018-10-02 v2 材料科学
摘要
等离激元学领域致力于寻找具有强等离激元（大等离激元极点权重）且低朗道、声子及其他损耗（小衰变宽度）的材料。本文提出一类展现极佳等离激元性质的新材料。这些材料由范德瓦耳斯堆叠的“等离激元活性”层（原子级薄金属层）与“支撑”层（原子级薄宽禁带绝缘层）构成。我们详细研究了一种可实验实现的此类材料——锂插层六方氮化硼。我们表明其二维等离激元强度优于重掺杂石墨烯中已被充分研究的狄拉克等离激元，而后者难以实现。我们还提出了一种计算代价极低但精确分析此类材料等离激元谱的方法，基于单带紧束缚近似与有效背景介电函数。
引用
@article{arxiv.1803.00592,
title = {Strong two-dimensional plasmon in Li-intercalated hexagonal boron-nitride film with low damping},
author = {Ivor Lončarić and Zoran Rukelj and Vyacheslav M. Silkin and Vito Despoja},
journal= {arXiv preprint arXiv:1803.00592},
year = {2018}
}