厚弯曲表面上图案的稳定性

我们考虑厚弯曲表面上的反应扩散方程，并得到一组至 ${\cal O}(\epsilon^2)$ 的有效 R-D 方程，其中 $\epsilon$ 为表面厚度。我们观察到这些弯曲表面上的 R-D 系统可具有空间依赖的反应动力学。进一步，我们利用线性稳定性分析研究球与柱几何中的 Schnakenberg 模型。两种情形下稳态对厚度的依赖性被确定，且我们发现厚度改变可稳定不稳定图案，反之亦然。厚度与曲率的联合效应在厚弯曲表面空间图案的重排中可起重要作用。