溅射 Y3Fe5O12 薄膜的自旋流产生
介观与纳米尺度物理
2014-10-23 v1 材料科学
摘要
通过自旋泵浦和自旋塞贝克效应，研究了从溅射钇铁石榴石（YIG）薄膜向相邻铂层的自旋流注入。采用同轴磁控射频溅射在室温下制备了厚度为 83 和 96 纳米的薄膜，并进行了后续退火处理。根据铁磁共振线宽的频率依赖性，估算出阻尼常数为 。由自旋泵浦和自旋塞贝克效应产生的自旋流大小与液相外延法制备的 YIG 薄膜的值处于同一量级。高效的自旋流注入可归因于良好的 YIG|Pt 界面，这通过大的自旋混合电导 m 得到了证实。
引用
@article{arxiv.1410.5987,
title = {Spin current generation from sputtered Y3Fe5O12 films},
author = {J. Lustikova and Y. Shiomi and Z. Qiu and T. Kikkawa and R. Iguchi and K. Uchida and E. Saitoh},
journal= {arXiv preprint arXiv:1410.5987},
year = {2014}
}
备注
6 pages, 4 figures