PAH 加工或形成不同情景下的光谱变化

我们考察了两种不同 PAH 加工（或形成）情景下 PAH 光谱特征与强度的变化：（1）小 PAH 正被摧毁（或等价地大 PAH 正被形成，称为 SPR 即小 PAH 移除），以及（2）大 PAH 正被摧毁（或等价地小 PAH 正被形成，称为 LPR 即大 PAH 移除）。PAH 发射的测量同时考虑了平台成分的存在与缺失。PAH 谱带强度随平均碳原子数 <N$_{C}$> 的变化在 SPR 情形下具有最高动态范围，表明较小 PAH 对 PAH 谱带强度影响更大。平台发射随 <N$_{C}$> 整体下降，且其在 SPR 情形下的更高动态范围也表明较小 PAH 主要贡献于平台发射。7.7/(11.0+11.2) $\mu$m PAH 谱带比呈现出最小的方差与最低动态范围，使该比值成为示踪 PAH 电荷的更好选择。3.3/(11.2+11.0) $\mu$m PAH 谱带比是唯一在 SPR 与 LPR 情景间同时具有单调方差且数值完全分离的比值，突显其作为 PAH 尺寸示踪器的效率，同时也得以刻画给定区域或源中占主导的加工或形成情景。我们提出了新的 PAH 电荷—尺寸诊断图，可揭示天体物理源内平均、最大或最小 N$_{C}$ 的信息。