中文

用于表面触觉的高性能 K$_{0.5}$Na$_{0.5}$NbO$_3$ 薄膜的溶液法制备

材料科学 2025-12-22 v3

摘要

K0.5_{0.5}Na0.5_{0.5}NbO3_3 是最有前途的无铅压电材料之一。虽然其溅射薄膜的性能可与冠军压电材料 Pb(Zr,Ti)O3_3 相媲美,但可重复地加工高质量且时间稳定的溶液法 K0.5_{0.5}Na0.5_{0.5}NbO3_3 薄膜仍然具有挑战性。在此,我们报告了通过化学溶液沉积工艺制备的 1 μ\mum 厚的 Mn 掺杂 K0.5_{0.5}Na0.5_{0.5}NbO3_3 薄膜,其具有完美致密的微观结构且厚度方向成分均匀。该薄膜表现出高横向压电系数(e31,f=15.4e_{31,f} = -15.4 C/m2^2)、高介电常数(εr920\varepsilon_r \approx 920)、低介电损耗(tanδ=0.05\tan\delta = 0.05),并且能够承受至少高达 1 MV/cm 的电场。其功能特性随时间表现出优异的稳定性,且合成工艺可重复。此外,通过使用 K0.5_{0.5}Na0.5_{0.5}NbO3_3 薄膜执行器,演示了一种表面声学触觉器件。结果表明,Mn 掺杂的 K0.5_{0.5}Na0.5_{0.5}NbO3_3 薄膜在压电应用中具有成为含铅 Pb(Zr,Ti)O3_3 薄膜替代品的巨大潜力。

关键词

引用

@article{arxiv.2502.21066,
  title  = {Solution-Based Fabrication of High-Performance K$_{0.5}$Na$_{0.5}$NbO$_3$ Thin Films for Surface Haptics},
  author = {Nagamalleswara Rao Alluri and Longfei Song and Stephanie Girod and Barnik Mandal and Juliette Cardoletti and Vid Bobnar and Torsten Granzow and Veronika Kovacova and Adrian-Marie Philippe and Emmanuel Defay and Sebastjan Glinsek},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2502.21066},
  year   = {2025}
}