$t$ 道中单顶夸克产生的 NNLO 计算

我们给出了五味方案下 $t$ 道单顶夸克产生与衰变在 NNLO 精度的计算。我们的结果解决了该过程两个先前计算之间的分歧,该分歧在 NNLO 系数本身层面即存在包含截面的差异。我们在包含截面、微分与置信层面将我们的结果与先前计算进行详细比较,其中包括在固定尺度 $\mu=m_t$ 下的 b 夸克标记。此外,我们提倡使用双深度非弹性散射(DDIS)尺度(轻夸克线取 $\mu^2=Q^2$,重夸克线取 $\mu^2=Q^2+m_t^2$),以最大化微扰稳定性并获得稳健的尺度不确定性。产生与衰变的所有 NNLO 与 NLO$\,\otimes\,$NLO 贡献均包含在壳与顶点函数近似中。我们给出了用于标准模型与超越标准模型分析的多种观测量的置信与微分结果,并发现排他性 $t+n$ 喷注截面的 NLO 与 NNLO 预测之间存在重要差异。总体而言,我们发现 NNLO 修正是精确识别 $t$ 道过程的关键。