双 Higgs 二重态模型在 Higgs 工厂的签名

给出了在 Higgs 工厂中双 Higgs 二重态模型（2HDM）下过程 $e^+ e^- \to Z \phi$（$\phi=h^0,H^0$）的完整单圈修正，包括弱修正与 QED 修正。在 $O(\alpha_{em})$ 阶，使用 FeynArts/FormCalc 软件包计算虚修正。使用费曼图计算（FDC）软件包计算实发射修正，并用电子的结构函数正规化共线发散。使用 FeynArts/FormCalc 与 FDC 软件包，我们分别研究了标准模型（SM）与 2HDM 中的修正。混合角归一化中出现的规范依赖性通过使用掐技术消除。在考虑当前 LHC 数据的实验约束后，我们为未来对撞机提出了四种有趣的基准情形。利用这些基准情形，我们评估了 $\Delta\sigma(e^+ e^- \to Z \phi)$ 相对其 SM 值的偏离。我们还检验了 Higgs 玻色子衰变 $\phi\to b\bar{b}$ 与 $\phi\to \tau^+\tau^-$，它们可具有来自三重 Higgs 耦合的大电弱（EW）贡献，而这在 SM 中是不存在的。研究发现，对于这些基准情形，EW 与实发射修正均不可忽略，并可在未来的 $e^+ e^-$ 对撞机如 ILC、CLIC 与 CEPC 上被测量。