成像板系统在 XUV 波段 (60 eV < E < 900 eV) 的灵敏度
等离子体物理
2015-06-04 v1 仪器与探测器
摘要
荧光成像板 (IPs) 已在 1 至超过 1000 keV 的能量范围内经过校准，并被证明可用于定量 X 射线成像。本文报告了在劳伦斯伯克利国家实验室先进光源 (Advanced Light Source) 6.3.2 光束线上，针对 60 至 900 eV 能量范围内的 XUV 能量所进行的校准测量。我们在所述能量范围内测得的灵敏度约为 counts/pJ，这与用于时间分辨测量的 Si 光电二极管的灵敏度相容。我们在 900 eV 处的测量结果与 Meadowcroft 等人在约 1 keV 处进行的测量结果一致。
引用
@article{arxiv.1202.1197,
title = {Sensitivity of an image plate system in the XUV (60 eV < E < 900 eV)},
author = {B. H. Failor and E. M. Gullikson and N. G. Link and J. C. Riordan and B. C. Wilson},
journal= {arXiv preprint arXiv:1202.1197},
year = {2015}
}
备注
7 pages, 2 figures