有机-无机界面处粗糙度诱导的磁去耦
材料科学
2023-12-12 v1
摘要
我们利用低能电子衍射与软 X 射线吸收谱/X 射线磁圆二色性研究了 FeN/Fe 上 HPc 的结构、电子与磁学性质。元素特异的磁化曲线揭示，在 HPc 覆盖度为 1 分子层时，与 HPc 的磁耦合增强了 FeN/Fe 的垂直磁各向异性。然而，增加两层和三层 HPc 分子层使磁化曲线形状 revert 回 HPc 沉积前的初始状态。我们成功地将 HPc-FeN/Fe 界面处磁耦合的出现与消失，与随 HPc 覆盖度增加而在 N 位点杂化强度的变化联系起来。
引用
@article{arxiv.2305.13727,
title = {Roughness-induced magnetic decoupling at organic-inorganic interface},
author = {Hiroki Ono and Yoshitaka Umeda and Kaito Yoshida and Kenzaburo Tsutsui and Kohei Yamamoto and Osamu Ishiyama and Hiroshi Iwayama and Eiken Nakamura and Toshihiko Yokoyama and Masaki Mizuguchi and Toshio Miyamachi},
journal= {arXiv preprint arXiv:2305.13727},
year = {2023}
}
备注
5 pages, 4 figures