溅射法生长的室温铁磁半导体金红石相Ti1-xCoxO2-δ外延薄膜
材料科学
2008-11-04 v1
摘要
采用直流溅射法在r面蓝宝石衬底上生长了室温铁磁半导体金红石相Ti1-xCoxO2-δ (101)外延薄膜。首次在溅射生长的薄膜中于室温下清晰观察到了铁磁磁化强度、磁圆二色性和反常霍尔效应。其磁化强度值接近3μB/Co，这与最近通过光谱学方法确立的该化合物中Co2+的高自旋态相一致。因此，其原本较大的磁光响应得到了进一步增强。
引用
@article{arxiv.0811.0073,
title = {Room Temperature Ferromagnetic Semiconductor Rutile Ti1-xCoxO2-\delta Epitaxial Thin Films Grown by Sputtering Method},
author = {Takashi Yamasaki and Tomoteru Fukumura and Masaki Nakano and Kazunori Ueno and Masashi Kawasaki},
journal= {arXiv preprint arXiv:0811.0073},
year = {2008}
}
备注
15 pages, 4 figures