界面在 TbFe(Co) 薄膜偏置成分中的作用
材料科学
2018-10-31 v1
摘要
铁磁性的 TbFe 或 TbFeCo 非晶合金薄膜已在超高真空中通过共蒸发生长。它们在居里温度以下均表现出面外磁各向异性，并具有适于电流诱导畴壁运动的成核与传播反转机制。卢瑟福背散射实验证实了蒸发过程中对 Tb 深度积分成分的精细控制。然而，与厚得多的样品相比，使用大量实验技术证实了此类薄膜中存在与界面相关的贡献。特别是，扫描透射电子显微镜实验揭示了深度依赖的成分以及受扰动的上、下界面，伴随铽的优先氧化与扩散。尽管如此，非晶且均匀的合金薄膜在类体部分仍然保持。该磁性层类体部分的成分（标记为有效成分）相较于深度积分成分存在偏置。薄膜的磁性质主要由这一有效成分决定，我们表明其随不同上、下界面而变化。
引用
@article{arxiv.1807.09570,
title = {Role of interfaces in the biased composition of TbFe(Co) thin films},
author = {E. Haltz and R. Weil and J. Sampaio and A. Pointillon and O. Rousseau and K. March and N. Brun and Z. Li and E. Briand and C. Bachelet and Y. Dumont and A. Mougin},
journal= {arXiv preprint arXiv:1807.09570},
year = {2018}
}
备注
9 figures