面向低剂量和精确相位成像的非焦点电子描绘重建
光学
2024-06-25 v1 材料科学
摘要
作为一种新兴技术，非焦点电子描绘（out-of-focus electron ptychography）有望通过单个衍射数据集快速成像原子尺度的大范围场（FoV）。然而，由于电子显微镜固有的扫描不稳定性以及探针形成镜头中未知畸变的存在，实现稳健的非焦点描绘重建面临重大挑战。本研究通过扩展我们之前的校准方法（傅里叶方法），该方法最初developed用于聚焦场景，大幅提升了非焦点描绘重建的鲁棒性。该扩展的傅里叶方法超越了现有的校准技术，提供更可靠和准确的扫描位置和电子探针初始化。此外，我们通过大量仿真全面探讨并推荐用于稳健非焦点描绘的优化实验参数，包括孔径大小和焦差。最后，我们以我们的校准方法为评估基础，全面比较使用聚焦和非聚焦电子探针获得的描绘重建，特别是在低剂量和精确相位成像情境下。
引用
@article{arxiv.2406.15879,
title = {Robust Ptychographic Reconstruction with an Out-of-Focus Electron Probe},
author = {Shoucong Ning and Wenhui Xu and Pengju Sheng and Leyi Loh and Stephen Pennycook and Fucai Zhang and Michel Bosman and Qian He},
journal= {arXiv preprint arXiv:2406.15879},
year = {2024}
}
备注
22 pages, 6 figures