外尔半金属薄膜中的 RKKY 耦合
介观与纳米尺度物理
2020-03-04 v1
摘要
我们在 Ruderman-Kittel-Kasuya-Yoshida（RKKY）理论框架内考虑了薄层外尔半金属表面间杂质自旋的有效耦合。若自旋位于同一表面，其耦合反映了费米弧的各向异性与自旋-动量锁定。相比之下，当自旋位于相对表面时，其耦合由费米弧以及体态共同介导。在此情形下，耦合出奇地强且强烈依赖于厚度，并在某一最佳厚度处达到最大。我们利用薄膜几何中态的解析解，以及紧束缚模型的两表面递归格林函数分析，证明了我们的结果。
引用
@article{arxiv.1908.04554,
title = {RKKY coupling in Weyl semimetal thin films},
author = {Sonu Verma and Debasmita Giri and H. A. Fertig and Arijit Kundu},
journal= {arXiv preprint arXiv:1908.04554},
year = {2020}
}
备注
12 pages. Comments welcome